PlasmaPro 100 ALE 牛津Oxford 原子层刻蚀机
PlasmaPro 80 PECVD牛津等离子沉积机
PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机
PlasmaPro 80 ICPCVD牛津ICP等离子沉积机
Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
PECVD Depolab 200 等离子体沉积机
Sentech Etchlab200 经济型反应离子刻蚀机(可升级)
ENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机
德国Sentech ICP-RIE SI 500 等离子刻蚀机
Sentech SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统
Sentech 离子刻蚀与沉积系统 Etchlab 200
美国Trion Orion III PECVD 薄膜沉积系统
美国Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion III 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统
Minilock-Phantom III 具有预真空室的反应离子刻蚀机
Minilock-Orion III离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统
中文版
