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名称：Durham Microwriter ML3 无掩膜光刻机
编号：
功率：
芯片数量：
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| 详细介绍 |
小型台式无掩膜光刻系统
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小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 | ------------------------------------------------------------------------------------------------------------
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传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。 | -------------------------------------------------------------------------------------------------------------
产品特点
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Focus Lock自动对焦功能
Focus lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。
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光学轮廓仪
Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。
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标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。
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别直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。
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简单的直写软件
MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。
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Clewin 掩模图形设计软件
•可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）
•可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
•书写范围只由基片尺寸决定
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产品参数
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| Microwriter ML3 |
基本型 |
增强型 |
旗舰型 |
| 最大样品尺寸 |
155×155×7mm |
155×155×7mm |
230×230×15mm |
| 最大直写面积 |
149mm x 149mm |
149mm x 149mm |
195mm x 195mm |
| 曝光光源 |
405 nm LED 1.5W |
405 nm LED 1.5W |
385 nm LED 适用于SU-8
（365+405nm双光源可选） |
| 直写分辨率 |
1μm |
1μm and 5 μm |
0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
| 直写速度 |
20mm2/min @ 1μm |
20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm |
25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm |
| 对准显微镜镜头 |
x10 |
x3 and x10 自动切换 |
x3, x5, x10, x20 自动切换 |
| 多层套刻精度 |
±1μm |
±1μm |
±0.5μm |
| 最小栅格精度 |
200nm |
200nm |
100nm |
| 样品台最小步长 |
100nm |
100nm |
50nm |
| 光学轮廓Z分辨率 |
无(可升级) |
300nm |
100nm |
| 样品表面自动对焦 |
是 |
是 |
是 |
| 灰度直写(255级) |
是 |
是 |
是 |
| 自动晶片检查工具 |
无(可升级) |
有 |
有 |
| 温控样品腔室 |
无 (可升级) |
无 (可升级) |
有 |
| 虚拟模板校准工具 |
无(可升级) |
无(可升级) |
有 |
| 气动减震光学平台 |
无(可升级) |
无(可升级) |
有 |
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| 应用案例 |
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直写分辨率1μm
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直写分辨率0.6μm
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微电极制备
光刻胶上的图形 Au电极（SEM） Au电极（SEM）
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设计图 光刻胶上的图形 放大图的显微结构
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微结构制备
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微流通道制备
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中文版
